根据流程中存在有四个氮气与氢烃及氧之间的接触界面的特点，设置了五个隔离系统——还原室上部隔离系统、四反下部隔离系统、_隔离系统、分离料斗下部隔离系统及闭锁料斗下部隔离系统

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再生器下部

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