下列各项中,属于受保护的集成电路布图设计专有权的保护条件的有( )。
A.应包含一定处理过程 B.应具备一定思想 C.应包含一定操作方法 D.应具备独创性 E.应符合《集成电路布图设计保护条例》定义
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